半導體單晶爐惰性氣體保護中使用美國GE Oxy.IQ微量氧分析儀監控
半導體工藝設備為半導體大規模制造提供制造基礎。摩爾定律，給電子業描繪的前景，必將是未來半導體器件的集成化、微型化程度更高，功能更強大。這里先介紹半導體工藝的頭道工序——單晶體拉胚的單晶爐。
單晶硅的制備工藝不同，所得到產品的純度和性能差異很大，因此其下游應用領域也有所區別。單晶硅在日常生活中是電子計算機、自動控制系統等現代科學技術中不可缺少的基本材料。電視、電腦、手機、汽車，處處都離不開單晶硅材料，單晶硅作為科技應用普及材料之一，已經滲透到人們生活中的各個角落。半導體單晶爐惰性氣體保護中使用美國GE Oxy.IQ微量氧分析儀監控
美國GE OXY-IQ氧分析儀是GE Panametrics O2X1氧變送器的更新型號，GE Panametrics oxy-iq氧變送器是一種高度可靠和具有成本效益的雙回路氧分析儀，線性化的4至20 mA輸出。可以測量ppm的范圍內的氧氣和百分比范圍的氧。所有的范圍是用戶可選擇的。這個緊湊的發射機采用先進的傳感器技術，準確地測量各種氣體中的O2，即使在危險的環境中（特殊環境請提前告知）。主營:微量氧分析儀,藥品殘氧儀,露點儀,熱導氣體分析儀,GE流量計,OX-1氧傳感器,頂空分析儀,紅外氣體分析儀,高溫濕度儀,西門子U23分析儀,ppb微量水分析儀,OXY.IQ氧分析儀,煙氣濕度儀,燃氣熱值儀,Kaye溫度驗證儀,L&W白度,儀激光氧分析儀,壓縮空氣露點儀,干燥機露點儀,激光氣體分析儀,便攜式露點儀,便攜式微量氧分析儀
GE Panametrics的oxy.iq是由一個微處理器，允許用戶選擇的控制范圍，調整輸出進行校準。編程是使用鍵盤和顯示器很容易做到。緊湊的oxy.iq設計容易適合任何安裝位置可以在取樣點安裝正確。
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