Servomex仕富梅DF-310E微量氧分析儀在電子氣半導體行業的應用
在半導體行業，對微量氧含量有著嚴格的要求。如果高純氮氣中的微量氧超標，會造成產品污染，影響產品質量，因此必須嚴格控制高純氮氣中的氧含量。在半導體工業中，為什么要用高純氮氣呢？
1.高純氮在電子工業中的應用電子氣是集成電路、光電子和微電子制造過程中不可缺少的基礎支撐源材料，特別是VLSI、液晶顯示器件、半導體發光器件和半導體材料，其中高純氮具有諸多優點。 2.由于電子行業在生產過程中也會對環境造成一定的影響和破壞，電子行業迫切需要轉型升級。在改進生產工藝的基礎上，將對環境的影響降低到zui。電子工業氮氣的純度必須保持在99.999%以上，才能滿足電子工業的生產標準。Servomex仕富梅DF-310E微量氧分析儀在電子氣半導體行業的應用 3.將高純氮氣應用于電子生產，不僅可以避免高溫造成的材料浪費，還可以提高生產效率，保證零件的精度，延長零件的使用壽命。 高純氮氣在電子工業中的主要應用 1.在半導體和集成電路的制造生產過程中，需要高純度的氮氣來保護和清潔氣氛，以保證半導體和集成電路的質量； 2.在半導體電池、電子合金材料等行業，高純氮用于電子產品的封裝、燒結、退火、還原和儲存。 3.在大規模集成電路、彩色電視顯像管、液晶和半導體元件的處理中，高純氮被用作非常重要的氮源。高純氮在單晶硅、多晶硅和一些外延行業的應用，不僅可以提高生產效率，還可以有效提高產品質量。 4.在電子行業磁性材料行業的成型中，需要經過噴砂、除水等步驟后放入充滿高純氮氣的氮氣室中。加熱規定時間后，重復上述步驟，然后放入冷卻通道中保護氮氣室。待溫度冷卻至中溫后，放入中溫冷卻室，直至完全冷卻，即可輸出功。 Servomex仕富梅DF-310E微量氧分析儀在電子氣半導體行業的應用
使用Servomex仕富梅DF-310E微量氧分析儀測試半導體行業的微量氧含量已經形成了一定的認知。
DF31E專門設計用于工業氣體應用中的**樣氣測量。它是下一代數字氧分析儀，集成了**的微量氧測量、新的圖標菜單導航用戶界面(GUI)和先進的數字通信。 參數: **度:標準配置:**度 靈敏度:zui可檢測的變化為3ppb，即ZD檢測線為3ppb(310E-H0050M)。 響應時間: 測量范圍:zui小0-0.5ppm，zui大0-25%。 工作溫度:0-45℃ 背景氣體:基本傳感器:被測背景氣體可包括惰性氣體和惰性氣體，如N2、H2、一氧化碳、氟利昂、碳氫化合物等。 Stab-EL傳感器選項:可中和微量酸性污染物，如CO2、H2S、Cl2、NOx、SOx等。 特點: **觸摸屏GUI界面，設置和操作直觀簡單。Servomex仕富梅DF-310E微量氧分析儀在電子氣半導體行業的應用 兼容DF-310E平臺的接線輸入和氣體接口。 順磁傳感器，可測量100%的樣氣。 可選的AquaXact氧化鋁傳感器可以同時監測O2和H2O。 支持數字通信，如RS232、RS485、Modbus、PROFIBUS和以太網Modbus TCP/IP。 應用領域: 空氣分離裝置 醫用/工業氣體 特殊氣體分布 產品優勢 DF31E專門設計用于工業氣體應用中的**樣氣測量。它是下一代數字氧分析儀，集成了**的微量氧測量、新的圖標菜單導航用戶界面(GUI)和先進的數字通信。 更多Servomex仕富梅DF-310E微量氧分析儀在電子氣半導體行業的應用信息請直接致電埃登威上海13482246053
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