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ADEV在線氧含量分析儀：煤氣化裝置安全高效運行的智慧守護者

ADEV氧含量分析儀：丙烯酸化工裝置安全生產(chǎn)的智慧守護者深度解析

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護航乙烯裂解爐：ADEV氧含量分析儀的應用與日常維護之道

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ADEV氧化鋯分析儀在鋼鐵企業(yè)加熱爐中的實際應用

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ADEV激光氧分析儀在苯酚丙酮裝置中的深度應用與優(yōu)勢解析

ADEV氧含量分析儀在煉油管式加熱爐高效燃燒控制中的關鍵應用
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日本Air Liquid在線微量氧分析儀在半導體超純電子氣體中ppb氧含量的應用|埃登威自動化系統(tǒng)設備（上海）有限公司

日本Air Liquid在線微量氧分析儀在半導體超純電子氣體中ppb氧含量的應用

在半導體材料和電子器件的生產(chǎn)中，要使用H、N、O、Ar、he等高純度氣體，氣體的純度嚴重影響產(chǎn)品質(zhì)量。諸如氫氣、氮氣以及它們所流經(jīng)的系統(tǒng)中的水和氧氣之類的氣體對硅和III-V族化合物極其有害。在硅外延過程中，當氫氣中的含水量達到100vpm時，硅外延層就會變成多晶。在MOS LSI的硅柵多晶膜工藝中，如果稀釋氣體中含有微量水分，多晶硅膜會被“氧化硅團”夾住，導致刻蝕多晶硅膜時多晶硅脫落，導致電性能惡化。因此，有必要監(jiān)測和控制流經(jīng)系統(tǒng)的高純氣體和微量氧氣和水。

高純氣體是集成電路、光伏、光纖等行業(yè)的重要基礎材料。在大規(guī)模集成電路芯片生產(chǎn)過程中，氣體中的氣態(tài)、液態(tài)和固態(tài)雜質(zhì)會對芯片質(zhì)量產(chǎn)生重要影響。由于氣體中微量氧和水的存在，高溫合成的半導體器件表面容易形成氧化膜，這是影響器件壽命和性能的重要因素。
日本Air Liquid在線微量氧分析儀在半導體超純電子氣體中ppb氧含量的應用
例如，外延生長是生產(chǎn)高質(zhì)量集成電路的重要步驟，沉積層的雜質(zhì)水平、厚度和微結構完整性取決于沉積工藝中所用氣體的純度。當氣體中雜質(zhì)過多時，外延層會形成“暗礁”，產(chǎn)生晶格缺陷等后果。因此，在半導體制造過程中，高靈敏度的氣體檢測顯然是必要的。

目前可以將N、Ar、H體積氣體中的雜質(zhì)(包括水分氧氣)控制在1ppb以下。為了進一步提高半導體工藝的質(zhì)量，需要提高特殊氣體的純度，特別是降低其中的殘留水分。現(xiàn)有的特種氣體水分濃度測量裝置主要有電容式、壓電晶體振蕩器式等。但由于特殊氣體的反應性、腐蝕性和反應產(chǎn)物的累積性，測量裝置的老化變化很明顯。因此，傳感器必須經(jīng)常清潔，并在短時間內(nèi)重新校準。特別是傳感器吸水時，特殊氣體溶解，無法進行精密準確的測量。微量氧分析儀采用的電化學及庫倫法及赫茲電化學方法，本文介紹日本液空公司的ppb微量氧分析儀測試精度是0.5ppb,測試范圍0-10ppb,0-10000ppb.它是為了滿足近年來半導體工業(yè)對高純氣體日益增長的需求而開發(fā)的。估計對半導體、制藥、新陶瓷等行業(yè)的氣體用戶和氣體制造商的質(zhì)量管理會有很大的提升。該分析儀可以測量氮氣、氬氣、氦氣和氫氣中的微量氧氣，其*低檢測靈敏度從以前產(chǎn)品的50ppb大大提高到0.5ppb

日本Air Liquid在線微量氧分析儀在半導體超純電子氣體中ppb氧含量的應用

半導體芯片在200~350℃的惰性氣體(N2 \氬氣)氣氛中退火。日本液空在線微量氧分析儀分，可測量半導體行業(yè)保護氣氛中ppb級微量氧含量，精度是0.5ppb.
日本液空在線微量氧分析儀的應用:

-半導體高純電氣體
-石化、電力-化學反應分析
-空氣分離中高純氧和微量氧的監(jiān)測-空氣分離和液化
-冶金、半導體、航空航天和**工業(yè)-核燃料處理和同位素分離
-制氫、制氮、凈化和干燥設備-純氣態(tài)烴的流路監(jiān)控日本Air Liquid在線微量氧分析儀在半導體超純電子氣體中ppb氧含量的應用
-可燃液體保護氣體層的主要液體供給和檢測
-氣態(tài)單體的工藝分析:氯乙烯、丙烯、丁二烯、乙烯、橡膠、叔丁胺等
日本液空ppb在線氧氣分析儀0-10ppb參數(shù):
精度:+-0.5ppb
可選范圍:
0-10ppb,0-10000ppb

更多日本Air Liquid在線微量氧分析儀在半導體超純電子氣體中ppb氧含量的應用信息請直接致電埃登威上海公司13482246053。

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