化學氣相沉積室中的清潔過程中用高純氮吹掃后ADEV微量氧分析儀水分析儀應用
化學氣相沉積(CVD)是生產高質量固體薄膜和涂層的有力技術。雖然在現代工業中已經廣泛使用，但由于適應了新材料，所以還在發展。如今，通過**制造2D材料的無機膜和可以共形沉積在各種基底上的高純度聚合物膜，CVD合成技術被推向了一個新的高度。
因為CVD中使用的原料大多是特殊氣體，比較危險，所以需要對這些氣體使用特殊的氣體系統。沉積的氮化硅膜(Si3N4)就是一個很好的例子。它是由硅烷和氮氣反應形成的，而硅烷(SiH4)是一種劇毒的特殊氣體，在室溫下可以點燃，在空氣或鹵素氣體中會發生爆炸燃燒。因此，需要使用專用的氣柜來保證硅烷的**使用。
化學氣相沉積室中的清潔過程中用高純氮吹掃后往往需要監控微量氧和微量水含量，這時候可以使用ADEV的在線微量氧分析儀和微量水分析儀，
ADVE在線微量氧分析儀G1501技術特點：
■快速響應和恢復時間 ■**、直接且易于使用的用戶界面 ■前面板傳感器入口 ■校準氣體的能力 ■緊湊簡單的外形化學氣相沉積室中的清潔過程中用高純氮吹掃后ADEV微量氧分析儀水分析儀應用 ■改進的溫度指數 ■不受流量變化的影響。 ■不需要零點氣體和輔助氣體。 ■不受碳氫化合物和其他氧化氣體的影響。 ■ RFI保護 ■免維護。 ■節約成本 ■液晶數字顯示器 ■ RS232雙向通信 ADVE在線微量氧分析儀G1501技術參數 測試范圍范圍：0-10ppm、0-100ppm和0-1000ppm，0-1%，0-25%的范圍。 空氣校準范圍:0-25% 可選范圍:0-1ppm *小分辨率范圍的0.5%或50ppb化學氣相沉積室中的清潔過程中用高純氮吹掃后ADEV微量氧分析儀水分析儀應用 恒溫下重復精度為滿量程的1%(對于小于10ppm的范圍，重復精度為滿量程的3%) 工作溫度32華氏度-113華氏度(0 -45攝氏度) 日溫度指數為32 ℉ -113 ℉ (0 -45℃)，小于測量范圍的3°。 90%響應時間100ppm-25%小于10秒 警報(標準)2個觸點，氧氣濃度完全可調 c形繼電器觸點3A，100伏 故障固態繼電器觸點3A，100伏 雙路輸出信號0-1VDC和隔離4-20mA 100/117/230伏交流電10% 50/60赫茲電源
ADEV在線微量水分析儀技術參數：
0-10/100/1000ppm/1%
4-20mA模擬輸出
220V或24V可選
氧化鋁工作原理
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Email：adevchina@126.com
公司網址：www.pandon.cc
公司地址：上海市普陀區中山北路1759弄浦發廣場D座1714室激光氧分析儀
主營:微量氧分析儀,藥品殘氧儀,露點儀,熱導氣體分析儀,OX-1氧傳感器,頂空分析儀,紅外氣體分析儀,高溫濕度儀,西門子U23分析儀,ppb微量水分析儀,OXY.IQ氧分析儀,煙氣濕度儀,燃氣熱值儀,Kaye溫度驗證儀,L&W白度,儀激光氧分析儀,壓縮空氣露點儀,干燥機露點儀,激光氣體分析儀, 便攜式露點儀,便攜式微量氧分析儀，離心機氧分析儀|GE流量計 氧量分析儀 氮氣氧分析儀fei 代表處,辦事處,分公司,子公司,總代理,分析儀價格,分析儀維修,分析儀校準
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