超高純氣體在半導體生產過程中CQC系統該如何選擇和配置
氣體是半導體制造過程中的一個重要組成部分，我們用氣體來產生塑造半導體電氣特性所需的化學反應。由于氣體系統的復雜性，所使用的氣體在制造過程中的每一個階段都需要精準，來配置半導體生產工藝。
目前隨著半導體行業的不斷發展和演變，在這個過程中使用的高純氣體也在不斷增加。使用的一些主要氣體包括氮氣N2、氧氣O2、氬氣Ar和氫氣H2.超高純氣體在半導體生產過程中CQC系統該如何選擇和配置
由于超高純氣體在半導體生產過程中沒有辦法少，氣體的品質及氣體的穩定性變的非常重要. CQC系統也由此誕生。CQC系統主要是由氣體的微量水分分析儀PPB和PPT級別，微量氧分析儀ppb級別和PPT級別，顆粒分析儀以及氣象色譜分析儀組成，針對高純氣體中的水分, 氧分, 固體顆粒物，碳氧化合物，碳氫化合物，氮, 氫等雜質氣體的含量進行實時測量和監控。目前，半導體行業常用的儀器品牌有Tigeroptics/光能科技水分儀，日本液空微量氧分析儀/Servomex氧分儀，PEAK氣相色譜儀，PMS/Accudevice顆粒儀等品牌，這些品牌目前是半導體行業中很主流的CQC設備品牌。超高純氣體在半導體生產過程中CQC系統該如何選擇和配置
CQC系統主要由氣體的水分分析儀，氧分分析儀，顆粒分析儀和氣相色譜儀組成，針對氣體中的水分，氧分，固體顆粒物，碳氧化合物，碳氫化合物，氮，氫等雜質氣體的含量進行測量監控。
半導體和LED制造商們依靠超高純度的工藝氣體，如氨和磷化氫來制造高科技產品，如智能手機、LED電視和燈泡，以及消費者很需要的CPU和內存芯片。這類關鍵氣體中的殘留水分會降低設備的性能，降低產量，并可能對產品和企業盈利能力產生負面影響。光能科技水分分析儀的設計目的是為用戶提供一個簡單的經濟有效的緊湊的微量水分析儀，以確保微量的水分在NH3, PH3和AsH3氣體中在要求的規格內。該儀器采用了**壓力控制器，光纖衰蕩技術。
日本液空ppb在線氧氣分析儀0-10ppb參數:精度:+-0.5ppb可選范圍:0-10ppb,0-10000ppb。超高純氣體在半導體生產過程中CQC系統該如何選擇和配置
所有 CQC 儀器柜都配置有各分析儀器所需硬件，即儀器機柜、管件、閥件、氫氣泄漏偵測器、零點純化器、過濾器等。樣氣、標氣、儀表氣、輔助氣等氣路銜接口均設置于儀器柜上方，并于各儀器機柜上方設置有 4”負壓抽風口。所需管路，閥件，輔助件均為 EP 級，并遵照客戶所規定品牌供應商;管路焊接均采用自動焊接， 以符合超高純氣體使用要求。
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