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ADEV微量氧分析儀在半導體行業的校準應用|埃登威自動化系統設備(上海)有限公司

ADEV微量氧分析儀在半導體行業的校準應用

一、引言

在半導體行業中,氣體的純凈度對于產品質量和生產工藝的穩定性至關重要。其中,微量氧氣的存在可能會對半導體材料的性質和性能產生重大影響。因此,**測量氣體中的微量氧含量成為半導體生產過程中的重要環節。ADEV微量氧分析儀正是為滿足這一需求而設計的高精度儀器。為確保其測量準確性和穩定性,定期的校準工作不可或缺。ADEV微量氧分析儀在半導體行業的校準應用

二、校準內容

  1. 濃度零點校準:
    • 微量氧分析儀的濃度零點是其測量的下限,一般情況下默認為00.1ppm。實際上,**的0是很難達到的,因此通常采用濃度非常低的氣體作為標準。
    • 在校準過程中,采用高純氬或高純氮,其氧濃度小于1.0PPM,作為濃度零點氣。
    • 通入微量氧分析儀中,調整濃度零點到00.1PPM。ADEV微量氧分析儀在半導體行業的校準應用
  2. 濃度量程校準:
    • 微量氧分析儀的濃度量程是其測量的上限,一般默認為21.0%(空氣)。
    • 量程與零點的差異越小,儀器的線性度越好。用戶可以根據自己的工況來確定合適的濃度量程。
    • 通入微量氧分析儀中,調整濃度量程到需要的示數。

三、誤差范圍與校準重要性ADEV微量氧分析儀在半導體行業的校準應用

微量氧分析儀的誤差范圍是指在特定工作條件下,其測量值與實際值之間的*大允許偏差。為確保微量氧分析儀的準確性和可靠性,必須注意其正確安裝和使用,并定期進行校準和調整。特別是在半導體行業,對氣體純度的要求極為嚴格,任何微小的誤差都可能導致產品質量的下降或生產工藝的不穩定。

四、結論

ADEV微量氧分析儀在半導體行業的應用中,不僅提供了高精度的測量,而且通過定期的校準,確保了測量結果的穩定性和準確性。這對于半導體生產過程中的質量控制和工藝穩定性至關重要。通過本文介紹的校準方法,用戶可以輕松地完成儀器的校準工作,為半導體的生產提供可靠的數據支持。

更多ADEV微量氧分析儀在半導體行業的校準應用信息請直接致電埃登威上海公司18939876302

滬公網安備 31010902002456號

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