CI-PC826微量氧氣分析儀在UV紫外固化爐中的應用解析
惰性大氣下紫外光固化的核心作用：
在包裝印刷、涂布及脫模有機硅涂層等領域，采用惰性大氣條件下的紫外光固化技術，旨在顯著提升生產效率。通過控制氧氣濃度，優化固化過程，確保涂層質量的一致性與高效性。
氧氣濃度監測方案概述：
通常，氮氣（N2）作為惰性氣體，經管道從儲罐直接輸送至UV設備的惰性室。為確保工藝條件的穩定與產品質量的持續高水平，對惰性室中的氧氣殘留量進行監測至關重要。通過**的氣體調節，實現對惰性腔內氣體填充的控制與優化。這一過程不僅遵循氧氣殘留量的嚴格要求，同時注重經濟性的考量。
氧氣殘留量的化學要求與應用差異：CI-PC826微量氧氣分析儀在UV紫外固化爐中的應用解析
氧氣的殘留量需根據具體化學要求確定，不同應用場合存在差異。例如，自由基固化有機硅脫模涂料要求氧含量低于30ppm，這對系統提出了極高的要求，尤其是在高工藝速度下。而在其他應用中，惰化水平可在百分比范圍內，以控制投資成本和氮氣消耗，實現經濟的惰化流程。
CI-PC826微量氧氣分析儀應用特性：
用戶操作經驗分享：CI-PC826微量氧氣分析儀在UV紫外固化爐中的應用解析
在實際應用中，用戶首先進行洗氣操作，將腔室內氣體置換至目標值。隨后，采用PID控制策略，將氧濃度穩定維持在設定值（如1ppm、10ppm、50ppm或100ppm）。當氧濃度略高于目標值時，系統自動開啟閥門，注入惰性氣體，以維持腔室內的低氧環境。
CI-PC826微量氧氣分析儀技術亮點：
總結：CI-PC826微量氧氣分析儀在UV紫外固化爐中的應用解析
CI-PC826微量氧氣分析儀以其**的性能、直觀的顯示、高精度的測量、快速的響應、先進的操作界面以及強大的通訊功能，成為工業過程控制中微量氧濃度監測的理想工具。無論是常規氧濃度監測還是微量氧**測量，它都能提供穩定可靠的解決方案。如需更多信息，請致電埃登威上海公司（電話：18939876302）。
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